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濕法刻蝕和清潔
作者： 發(fā)布時間：2020-05-02 16:57:21點(diǎn)擊：2528
批量濕蝕刻和清潔工藝涉及同時處理多個晶圓。將晶片浸入，并且通過過濾重復(fù)循環(huán)處理化學(xué)品，該過濾設(shè)計是為了去除晶片表面正在被蝕刻的顆粒。在多道次濕法蝕刻和清潔工藝中，具有較高流動性的過濾器可以增加熔池周轉(zhuǎn)以改善顆粒去除效率。
XZC提供一系列耐化學(xué)腐蝕和低金屬材料的濾芯，可以改善這一工藝周轉(zhuǎn)率。我們的褶皺濾芯提供了關(guān)鍵的濕法蝕刻和清潔過程中通常需要的流量和使用壽命。
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